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自相關儀是近十多年來發展的專門用于測量脈沖寬度的新型儀器，具有高分辨率、高靈敏度和使用方便等優點。適于測量鎖模染料或藍寶石激光器的ts脈沖和脈沖半導體激光器。自相關儀是一種能監視脈沖光譜輪廓隨時間變化的先進技術。我們能利用這些技術完整地重建電場。在這些技術中，自相關儀是最直接和簡單的方法。自相關儀能完整地恢復輸入場的相位，不存在自相關導致的模糊性。自相關儀工作原理：自相關儀的光學結構類似于萊克爾遜干涉儀，激光通過分光鏡后分為兩束光，將激光的時間量變成空間量，即將時間的測量變成...

超快微納激光加工中心產品優勢：可實現三維增材制造和二維減材加工；適用于聚合物、玻璃、金屬、合金材料的多功能微納加工系統；納米級加工精度和分辨率；全自動操控系統。跨尺度納米級別三維加工能力，魔技納米深入生物醫學、微納光學、光電通信、新材料、防偽等多領域。結合自研設備，摸索并形成面對多個行業應用的*及成熟的加工工藝。我司深入生物醫療、光電通信、新材料、微納器件等多個產業應用領域，擁有應用于多行業場景的成熟加工工藝。可定制研發適配各產業領域生產需求的個性化設備和產品，突破生物制藥、...

三維激光直寫光刻機提供豎直和掃描直寫模式，確保直接軌跡偏離小于100nm，具有電動光學聚焦系統，提供快速的聚焦功能，從而適合各種厚度襯底的要求，并具有晶圓裝載和卸載系統裝備到襯底室供客戶選配，增強清潔程度，提高工作量和用戶安全程度。激光直寫不僅具有無掩模板直寫系統的靈活性，還擁有高書寫速度和低成本的特點。三維激光直寫多個藍光激光頭可以在電腦控制下進行平行工作對基片上無需高分辨率的部分進行高速書寫曝光，之后自動切換高分辨激光，并對需要高分辨的細節進行加工。這樣的設計在加工速度和...

紫外光刻儀是一種用于材料科學領域的工藝試驗儀器，用于將涂有光刻膠的晶片與掩膜的對準，然后曝光，將掩膜的圖形轉移到晶片的光刻膠上，用于納米器件的微加工。紫外光刻主要功能：采用紫外光源，實現光刻膠的曝光，將光刻版上的圖形轉移到光刻膠上，在光刻膠上制作出亞微米（＞0.8um）圖形結構。紫外光刻系統是目前實驗室光刻技術中最為常用和重要的光刻設備。紫外(UV)光刻和直接書寫的方法，其中曝光模式和劑量都是由互補金屬氧化物半導體(CMOS)控制的微像素化發光二極管陣列決定的。來自演示器8x...

納米針具有哪些可觀的應用前景呢？納米針是通過納米技術打開皮膚管道的一種微針，針頭類似一塊小小的晶片方塊，上面布滿了密密的、細到看不出來的小針，將這個小方塊按在皮膚上，就能讓藥物進入表皮，而人幾乎沒有感覺。2015年3月，英國倫敦帝國學院(ImperialCollegeLondon)和·美國休斯頓教學研究所(HoustonMethodistResearchInstituteintheUSA)的研究人員希望他們的納米針技術能幫助人類受傷組織（器官）和神經的修復。納米針的工作是將核...

三維激光直寫儀是納米壓印光刻和納米結構制備的關鍵設備，它采用機械模具微復型原理來代替包含光學、化學及光化學反應機理的傳統復雜光學光刻，從而進行納米圖形加工和納米微結構制造。飛秒激光直寫光纖Bragg光柵（FBG）多個領域開創全新的傳感機遇，嚴苛的環境下對溫度，應變，應力，振動，速度，加速度等多變量進行測量。與傳統FBG解決方案*不同，FsFBG用飛秒激光直接透過各類特種光纖涂覆層在光纖纖芯寫入光纖布拉格光柵，具有非常*的穩定性。并可根據客戶要求參數進行定制。FBG是制造在光纖...

雙光子光刻技術（TPL）是一種基于雙光子聚合的激光直寫技術，這種技術能夠制造具有亞微米特征尺寸的任意復雜的三維結構。由于雙光子激光直寫技術，是基于逐點串行寫入的方式來實現三維加工，因此加工速度慢、效率低，很難同時滿足高精度和高速度；在大規模的工業生產中，傳統雙光子激光直寫技術的可擴展性也是有限的。飛秒激光投影式雙光子技術通過實現逐層并行化的加工方式，可以將加工速度提高一千倍。然而，大面積并行化加工的方式，也改變了雙光子聚合過程中的時間和長度尺度。因此，建立并行投影雙光子的模型...

微納3D打印技術將作為重要技術基石之一，把人類的工業文明推進到4.0時代。目前的3D打印也已經進入到了細分市場的階段，有家用桌面級的小型3D打印機，也有工業生產的大型工業級3D打印機；打印材料有的是塑料，有的是金屬，甚至還有黏土。但無論是桌面級還是工業級，常見的3D打印機工作原理都是分層制造，這使得層與層之間的精度很受限，存在所謂的“臺階效應”。這使得3D打印機難以制造低粗糙度、高精度的器件，如各種光學元件、微納尺度的結構器件等等。3D打印被稱為雙光子3D打印，其實專業名稱應...